中国光刻机市场以年均15%复合增长率狂奔，2025年规模预计达250亿元，2030年或冲击500亿大关。

　　国产替代窗口期：高端光刻机进口依赖度超90%，但中低端市场国产化率已提升至50%以上，政策驱动下（如《中国制造2025》），国产设备渗透率将持续攀升。

　　EUV成制高点：荷兰ASML垄断全球EUV市场，但中国正加速光源、光学系统等核心环节攻关，上海微电子的28nm DUV光刻机已量产，国产EUV原型机研发提上日程。

　　产业链协同突围：从光源、光学器件到控制系统，国内企业正以“蚂蚁雄兵”战术分食全球供应链。例如，福晶科技的光学晶体、茂莱光学的精密镜头已打入ASML供应链。

　　核心亮点：绑定国家战略，上海微电子的28nm DUV光刻机已商用，下一代技术瞄准14nm。

　　战略定位：以资金和制造能力为上海微电子提供产业链协同，主攻光刻机机械结构件。

　　增长潜力：随EUV普及，高端晶体需求爆发，未来3年利润CAGR或达25%。

　　市场地位：国内唯一能提供28nm制程清洗设备的企业，客户包括台积电、中芯国际。

　　增长驱动：半导体扩产潮下，十大买球的app设备需求激增，未来3年订单CAGR或达50%。

　　技术优势：光刻机温度控制精度达±0.01℃，国产替代率不足10%，成长空间巨大。

　　赛微电子（MEMS透镜）：全球唯二能量产光刻机微透镜的企业，技术独步亚洲。

　　炬光科技（光场匀化器）：EUV光刻机核心元件，国内唯一供应商，毛利率超60%。

　　国产替代加速：政策补贴+技术突破，中低端市场国产化率或超70%，高端市场逐步破冰。

　　技术联盟崛起：如上海微电子+上海电气的“整机联盟”，福晶+茂莱的“光学联盟”，协同对抗ASML垄断。

　　细分赛道爆发：光学器件、洁净设备等环节技术门槛高、国产化率低，头部企业将享受超额收益。

　　这场战役的终局，或将由那些在细分领域死磕技术的“隐形冠军”们共同书写。而我们要做的，就是找到这些“蚂蚁雄兵”，等待他们成长为“大象”。

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