超临界萃取技术是现代化工分离技术的学科，是目前国际上兴起的一种先进的分离工艺。超临界萃取是指在一定的压力、合适的温度下，在萃取缸中，溶剂与被萃取物充分接触，溶质扩散到溶剂中，再在买球的app分离器中改变工作条件，使溶解物质析出，以达到分离的目的。

　　5、价格低廉，经济性好。该超临界清洗装置主要是应用超临界CO2萃取原理来实现对半导体硅片的清洗。

　　（1） 能满足超临界二氧化碳（Tc≥31.06℃、Pc≥7.39MPa）的间歇式工作条件，二氧化碳可循环利用。

　　（2） 在清洗器前设计了混合器，可使CO2进入清洗器前充分的与夹带剂预混。

　　（4） 清洗器后的管路上，通过一级、二级过滤分离装置实现了气、液、渣的分离，确保了系统管路畅通、不堵塞。

　　（5） 一级、二级分离装置均设计有水夹套及外保温装置，采用两套恒温水浴及低温冷却液来控制来控制一级、二级分离器的温度，并确保出来的CO2成为气态被回收再利用。

　　（1） 清洗器、一级分离装置、二级分离装置等关键监测点的压力、温度设计了压力传感器和温度探头以及带通讯口的数显二次仪表，可实现与计算机联网，由计算机实时监控并记录。

　　（2） 二氧化碳泵及夹带剂泵自带流量显示功能，可与计算机联网，及时采集和控制CO2和夹带剂的流量，可实现计算机实时监控。

　　（2） 二氧化碳的排气设计了汇气排，可统一排放到外界控制去，静化了室内空气，又减少了室内放气的噪音。